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Development
当社が取り組む先端技術開発
私たちは、AIや統計的手法を駆使した半導体テストデータ解析を通じて、製造現場の課題を根本から解決する研究開発に注力しています。
その成果のひとつとして、以下のような特許技術を日本および米国で出願中です。
出願中の特許技術
特許名称
半導体ウエハの検査装置、半導体ウエハの検査方法及び記録媒体
出願状況
日本特許出願中 / 米国特許出願中
特長
微細な欠陥の高精度検出、歩留まり改善、TAT短縮に寄与
Our Vision
今後の展望
現在出願中の特許技術をベースに、さらに複数の応用技術の実用化を進めています。
半導体製造の現場で本当に役立つ技術の提供を通じて、業界の未来に貢献していきます。
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